近日华为的光刻机专利遭到曝光，从国家知识产权局公开信息看到，该专利是四年前申请，2018年已经在国际上申请PCT专利申请，申请人是华为公司，名称是光刻设备和光刻系统。
华为可不是刚开始琢磨光刻，今年年初一件华为公开的专利显示早在2016年就开始研究光刻机。

这篇专利蛮有意思，从中还能看出华为作为通讯巨头解决光刻问题不一样的思路，不过对于光刻机我不懂，只能半蒙半猜的解读下。

1.基础知识：光刻(Lithography)是指在晶圆(wafer)的制造过程中，利用掩模照相复制或者利用干涉光在基材上形成电路图案的方法。（可以简单理解为用光当刻刀来雕刻芯片）

2.该专利解决的问题：当需要在较大的基材表面上制备周期性图案时，需要通过平移步进装置平移承载基材的支架并需要复杂的对准步骤，由于平移步进装置价格昂贵且精确度不高。（芯片的精度是纳米级，因此要求移动刻刀或基材时必须是纳米的精度）

3.华为的解决方案：既然移动起来费劲，那我就多放几把刻刀

4.为什么我之前说这个发明体现出华为通讯大厂的气质？

本来这是个机械问题，要高精度的实现纳米级的移动，需要高精度的平移步进结构，这很难，无论是材料还是“移动电机”的开发都很难，可以类比为几个超小型的高精度机床。
机械的问题需要几十年的积累，要不咱们国家也不会多年未突破高精度机床。

华为试着走另外一条简单粗暴的道路，那就是增加刻刀，刻刀的材料相对简单，增加刻刀更大的难度在多把刻刀同时工作时如何协调他们的光路，这是华为的强项，毕竟他们无时无刻不在处理着这种 多路并发 的问题。

5.还是要声明下我不懂光刻，上面只是半蒙半猜